光谷实验室研成功发出高性能量子点光刻胶,有望为Micro-LED技术带来突破

8月13日,据“光谷实验室”消息,近日,湖北光谷实验室传来好消息,该实验室与华中科技大学集成电路学院、光电子器件与三维集成团队以及广纳珈源(广州)科技有限公司合作,成功研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR)。这一创新成果有望为Micro-LED全彩显示技术带来重大突破,推动AR、VR等领域的发展。

Micro-LED显示技术因其高分辨率、高亮度、高对比度、宽色域等优势而备受关注。然而,实现全彩化显示一直是该技术面临的挑战之一。目前主流的RGB三色micro-LED全彩技术存在诸多问题,如巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂等。此外,随着micro-LED尺寸的减小,红色LED的发光效率急剧下降,进一步加剧了全彩化显示的难度。

高性能量子点光刻胶

为了解决这些问题,研究团队采用了单色蓝光micro-LED激发绿色和红色荧光材料的方法,以实现全彩化显示。而胶体量子点因其发光半峰宽窄、颜色可调、效率高、粒径小等优异性能,成为配合蓝光micro-LED的理想荧光材料。

量子点光刻胶的性能指标